8일차 해커스잡 GSAT + 반도체 직무 강의
8일차도 동민쌤 반도체 강의로 시작했습니다.
8일차 반도체 강의는 deposition 공정에 관련된 내용이였습니다.
depoition 방법에 따라 크게 PVD 와 CVD로 나누어 세부적인 내용들도 전부 정리할 수 있었습니다.
저는 ALD를 제외하고 나머지 deposition 공정들에 대해서는
방법론적인 내용들을 잘 몰랐었는데
나머지 cvd 에 대해서도 간략하게 정리할 수 있는 시간을 가질 수 있었던 것 같습니다.
속도 측면에서 LPCVD>PECVD>APCVD 순으로 빠른 속도를 가지고
품질의 경우 APCVD>PECVD>LPCVD 순서로 좋은 품질을 가지는 것을
각각 1개의 분자가 박막으로 변하는 속도 그래프를 보며 확인할 수 있었습니다.
또 처음 들어본 HDPCVD는 deposition과 sputtering 을 반복하는 박막 형성 방법으로
높은 품질을 가질 수 있지만 매우 느린 속력을 가진다는 것을 배웠습니다.
양리라 쌤의 마지막 수리논리 파트 해설강의를 들었습니다.
지난 주 소원쌤 특강에서 배웠던 '분모 분자 증가율 비교 방법/분모 분자 차이 비교 방법'을
실제로 적용했었고 리라쌤도 해설강의에서 적용하여 푸는 것을 보여주어 연습하는데 도움이 되었던 것 같습니다.
또 19,20 번 같은 경우 해설을 친절하게 해주셨는데
더 어려운 수열이나 수열추리가 나올수도 있으니 여러 문제 유형을 연습해보라고 해주셨습니다.
실제로 GSAT 는 시험에서 당황하지 않기 위해 여러 문제 유형을 연습해보려고 합니다.
8일차 완료!!
※ 해커스잡으로부터 인강을 제공받아 작성된 후기입니다. ※ 해당 후기는 해커스잡 GSAT+반도체 빡센스터디를 통해 수집된 후기입니다.
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