¿À´Ã °ÀÇ ½ÃÀÛÀº 9ÀÏÂ÷¿¡ ´Ù³¡³»Áö ¸øÇß´ø ½ÇÀü¸ðÀÇ °í»ç 2ȸÂ÷ (Ã߸®) 11¹ø ¹®Á¦ºÎÅÍ Ç®ÀÌ¿´½À´Ï´Ù.
11¹ø ¹®Á¦ ºÎÅÍ´Â ½ÇÀü¸ðÀÇ °í»ç 1ȸÂ÷¿Í ºñ½ÁÇÑ ¹®Á¦ ¹æ½ÄÀ¸·Î µÇ¾î ÀÖ¾î ½ÇÀü¸ðÀÇ °í»ç 1ȸÂ÷ ¹®Á¦¸¦ Ç®¶§ º¸´Ù ´õºü¸£°Ô Ç®¼öÀÖ¾ú½À´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼°ÀÇ´Â memory ¹ÝµµÃ¼¿¡ ´ëÇÑ °ÀÇ ¿´½À´Ï´Ù.
³»¿ë¿¡´Â Flash memory ±¸Á¶¿Í µ¿ÀÛ, NAND Flash memoryÀÇ ±¸µ¿¿ø¸®,RAM¿¡ ´ëÇÑ °ÍÀÌ ÀÖ¾ú½À´Ï´Ù.
Flash memory ±¸Á¶´Â MOSFETÀÇ ±¸Á¶¿Í Àü¹ÝÀûÀ¸·Î ºñ½ÁÇÏÁö¸¸ gateÀÇ sio2À§¿¡ »õ·Î floating gate/charge trap°ú ¶Ç´Ù¸¥ sio2 ÃþÀÌ »ðÀԵǾîÀÖ´Â ±¸Á¶ÀÔ´Ï´Ù.
NAND Flash memoryÀÇ ±¸µ¿¿ø¸®´Â write¿Í erase,read·Î ³ª´©¾îÁö°í
write´Â control gate¿¡ °í Àü¾Ð Àΰ¡Çϸé fliating gate ¶Ç´Â charge trap layer¿¡ electrons ÃàÀûµË´Ï´Ù.
erase´Â write¹Ý´ë·Î control gate¿¡ -ÀÇ °í Àü¾ÐÀ» °É°Ô µÇ¸é ±âÁ¸¿¡ ÃàÀûµÇ¾îÀÖ´ø electrons µéÀÌ ¹èÃâµÇ¸é¼ Áö¿öÁý´Ï´Ù.
read´Â mosfet ¼ÒÀÚÀÇ vth¸¦ È®ÀÎÇϴ°ÍÀ¸·Î floating gate³ª charge trap layer¿¡ electronµé¿¡ ÀÇÇÑ vthº¯ÈÇÏ°Ô µË´Ï´Ù.
RAM¿¡¼´Â DRAMÀÇ write,read,erase ¿¡µû¶ó ±¸µ¿¿ø¸®¸¦ ±×¸²°ú ±×·¡ÇÁ¸¦ ÅëÇØ ¼³¸íÇØÁּ̰í
Â÷¼¼´ë ram¿¡´ë¼µµ ¾Ë·ÁÁּ̽À´Ï´Ù. Â÷¼¼´ëram Á¾·ù·Î´Â pcRAM, STT-MRAM, RRAMÀÌ ÀÖ°í pcRAM¿ø¸®´Â Àü·ù¿¡ ÀÇÇÑ phase tramsformationÀ» ÀÌ¿ëÇϴ°ÍÀÌ°í STT-MRAMÀº ÀÚ±âÀåÀÇ ¹æÇâ°ú ÀüÀÚÀÇ spin ¹æÇâÀ» ÀÌ¿ëÇϴ°ÍÀ̸ç
RRAMÀº ceramic°ú °°Àº ºÎµµÃ¼ÀÇ defect¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ °ÍÀÌ¿´½À´Ï´Ù.