8일차 시작은 7일차에 다 풀지못한 실전모의고사 2회차 15번 문제 풀이를 하였습니다.
이번강의에서 양리라 선생님께서는 수리문제를 풀때 보기가 계산이 쉬운 문제 부터 풀라고 하셨고 11 X 두자릿수 빠르게 계산하는법을 연습하라고 하셨습니다. 숫자큰 수를 구할때는 일의 자리를 먼저 계산하여 보기에서 찾아 빠르게 답을
찾고 문제를 풀면서 스킬을 얻어 시간 관리 하는 법을 연습하라고 하셨습니다.
반도체강의는 deposition 공정에 세부적인 내용을 설명해주셨습니다.
deposition 공정은 반도체 제조 공정에서 두께가 um(마이크로미터) 단위 이하인 얇은 막을 형성하는 과정이고
(원하는 특성의 thin film형성), (within wafer, wafer to wafer,lot to lot 균일성),(gap filling property,step converage,conformal) 조건을 요구한다고 알려주셨습니다.
deposition 공정은 크게 PVD와 CVD로 나뉘는데 PVD는 Thermal 방식과 sputtering 방식 있고 CVD의 종류는 APCVD, LPCVD, PECVD,HDRCVD, ALD 가 있다고 말해주셨습니다.
PVD의 장점은 단순한 공정,다양한 물질 이용가능 이고 단점은 낮은 step coverage 이였고
CVD의 장점은 thermal 대비 저온, 좋은 step coverage, thin film의 두께조절이 용이, 다양한 gas사용(다양한 특성의 박막가능) 이고 단점은 많은 반응 변수, 유해gas 사용, 복잡한 장치 사용, 증착 가능 물질이 제한적 이였습니다.
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